半導體是現代電子技術的支柱，支撐著無數日常依賴的設備運轉。這些介于導體與絕緣體之間的導電材料，在集成電路、晶體管及其他電子元件的制造中不可或缺。然而，由于生產環境要求高度無菌，且需使用維持潔凈度的特殊產品，半導體制造過程存在顯著的化學危害，須采取嚴格的安全措施。

半導體制造中的化學危險

半導體行業使用多種危險化學品，包括：

氫氟酸：用于硅晶片的蝕刻與清洗

硫酸：應用于清洗、濕法蝕刻及濕法剝離工藝

丙酮、異丙醇等溶劑：用于清潔與脫脂

這些化學品對工人構成嚴重威脅，可能導致嚴重灼傷、呼吸系統問題及潛在的長期健康損害。

化學灼傷源于皮膚組織與腐蝕性或強堿性物質的直接接觸。酸堿化合物均可造成組織損傷，其嚴重程度主要取決于接觸時長。值得注意的是，堿性物質往往比酸性物質更頑固地附著于皮膚，可能需要更長時間沖洗才能有效清除。及時采取適當處理措施對減輕組織損傷至關重要。

氟化氫尤其會造成燒傷，且傷勢可能不會立即顯現，若未及時沖洗，它會滲入皮膚深層造成嚴重傷害。同樣地，當任何腐蝕性物質接觸眼睛時，即使濃度較低也可能導致角膜永久性損傷或其他長期眼部健康問題。

發生化學品泄漏時，立即進行去污至關重要。這凸顯了為人員配備安全淋浴裝置和洗眼站的重要性。

安全淋浴裝置保障工人安全

隔間式安全淋浴裝置是眾多半導體工廠的熱門解決方案，因其能在傷員進行去污處理時更大限度減少化學物質向周邊區域的污染或擴散。配備ABS封閉式洗眼器的休斯隔間安全淋浴裝置，是半導體制造工廠快速去污的典范方案。該設備提供：

• 每分鐘76升的最低流量，滿足全身去污需求
• 1秒內啟動，緊急情況即時緩解
• 封閉式面盆設計的眼/面部沖洗裝置，有效阻隔外部污染物與碎屑
• 帶可選條形屏風的封閉式隔間，形成防污染區域防止環境擴散
• 玻璃鋼集水槽配格柵，使用后安全導流污染水。若現場排水點較遠，可選配集水槽泵型號。

本設備高度可定制，能適應多種場地需求。封閉式洗眼器可內置或外置安裝，支持獨立或同步操作。

此外，HUGHES公司還生產一系列采用粉末涂層不銹鋼制造的實驗室安全淋浴裝置，可有效防止腐蝕，并可選配遮羞簾。

符合EN與ANSI標準

當發生化學品飛濺或泄漏時，該安全淋浴裝置可提供每分鐘76升的持續沖洗，持續時間超過15分鐘，滿足EN與ANSI標準規定的要求。設備采用簡易手柄啟動設計，并可選配腳踏板實現免提操作。此外，安全設備必須安裝在10秒可達范圍內，且與潛在危險源處于同一水平面。